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    真空烧结炉的主要特点

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    真空烧结炉的主要特点

    发布日期:2020-04-03 作者: 点击:

     产品用处:适用于电子陶瓷、玻璃、晶体、粉末冶金、纳米资料、金属零件、电子元器件、新型资料及粉体资料在真空环境下进行热处理。

    主要功用和特点:

    1.大屏幕接触显现,本机集成了真空泵,内循环水冷却体系,防止外接水源的繁锁,使设备的外表面温度更低,美观大方,操作简洁。(水源,水循环机需客户自备或许选配)

    2.本款产品加热体系,真空体系,内循环水冷却体系,监测体系,都可通过操控按钮操作。本机功用全面,满意客户绝大部分要求。

    真空烧结炉

    3.专业的真空设计,独特的密封技术,保证了炉腔的气密性,真空度远远超越同类产品。

    4.智能PID高精度操控,自整定功用,30段可编程操控,可设置30段升降温程序,实现了功率无损耗。

    5.可选配485转换接口,实现与计算机相互连接。选配专用的电脑操控体系来完成与单台或多达200台电炉的远程操控、实时追踪、历史记录、输出报表等功用。

    7.热污染少,采用国内新型高纯氧化铝微晶体纤维保温资料,(可选配不锈钢隔热屏炉膛,炉膛更洁净,降温更快。)

    8.控温精细,具备多种温控器可供选择,温度波动小(控温精度±1℃)。

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